中方回应荷兰将扩大光刻机管制范围
中新社北京9月8日电 (记者 李晓喻)针对荷兰宣布将扩大光刻机的管制范围，中国商务部新闻发言人8日称，中方对此表示不满。
发言人在答记者问时称，荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中方对此表示不满。
发言人指，近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施，严重威胁全球半导体产业链供应链稳定，严重损害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决反对。
发言人称，荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。(完)
【编辑:叶攀】
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